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考夫曼射频离子源RFCIP220辅助溅射制备GdF3光学薄膜

2021-02-02 07:59:01  伯东企业（上海）有限公司  发布
  GdF3光学薄膜拥有优异的光学性能, 在深紫外光学薄膜中有广泛应用, 以193nm投影光刻为例, 其系统有30~40个光学元件, 且部分元件口径高达 400mm,为了使系统高质量成像, 不仅要求制备的薄膜具有极高的透过率和良好的抗激光损伤能力, 而且为了膜厚均匀性控制提出了极高的要求.

 

因此某光学薄膜制造商采用KRI 考夫曼射频离子源 FRICP220 和射频离子源 FRICP140辅助溅射制备GdF3光学薄膜, 以求获得透过率高且良好抗激光损伤能力的均匀性的GdF3光学薄膜.

 

客户离子束溅射系统装置图如下图:

 

其中用于溅射的离子源为 20cm的 KRI 射频离子源 RFICP220, 辅助离子源为12cm的KRI 射频离子源 RFICP140.

伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:

portant;">

离子源型号

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RFICP220

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Discharge

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RFICP 射频

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离子束流

portant;">

>800 mA

portant;">

离子动能

portant;">

100-1200 V

portant;">

栅极直径

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20 cm Φ

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离子束

portant;">

聚焦, 平行, 散射

portant;">

流量

portant;">

10-40 sccm

portant;">

通气

portant;">

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

portant;">

典型压力

portant;">

< 0.5m Torr

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长度

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30 cm

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直径

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41 cm

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中和器

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LFN 2000

* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量

伯东 KRI 射频离子源 RFICP140 技术参数:

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型号

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RFICP140

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Discharge

portant;">

RFICP 射频

portant;">

离子束流

portant;">

>600 mA

portant;">

离子动能

portant;">

100-1200 V

portant;">

栅极直径

portant;">

14 cm Φ

portant;">

离子束

portant;">

聚焦, 平行, 散射

portant;">

流量

portant;">

5-30 sccm

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