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最新产品 > 样品处理设备 > 泵装置 > 真空泵 > 溅射离子泵>英国Emitech 高真空离子溅射仪 K...

更新时间:2025-02-19 02:32:26 点击:289次

产品型号 K575X
参考报价 返回顶部 面议
基本规格
产品类型 返回顶部 溅射离子泵
品牌 返回顶部 英国Emitech
产地 返回顶部 英国
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技术参数
电源 返回顶部 230伏/50Hz
仪器尺寸 返回顶部 450mm W x 350mm D x 175mm H
其他信息
产品简介

K575X使用“涡轮”泵,前级为旋转机械泵,整个抽真空过程为自动控制。
真空度可调整,以适应铬或其它易氧化金属,以及金靶等不同材料要求,定时器可设置成不同的溅射时间。
本系统装配了磁控管靶,靶面直径为54 mm,可快速更换靶材。
溅射头用Peltier制冷,可得到高性能、精细颗粒的涂层(无需水冷却)。
溅射时参数可预设,包括气体放气电磁阀。
优点
● 可溅射易氧化金属精细颗粒,如:铬(Cr)或铱(Ir)
● 应用范围广,除了可选溅射常用金属靶材如:金银铂钯铜锡铝镁铁钴镍铬钛钼钨铱钽等单质纯金属靶材之外,还可选配金钯合金靶、铂钯合金靶、碳靶以及ITO(氧化铟锡)靶等特殊靶材
● 易操作
● 无需水冷却
● 超高分辨率,可复制涂层
● 适应各种样品
● 重复膜厚沉积
● 样品容易装载和卸载
● 不需要打开真空即可进行顺序涂层
● 沉积厚度可预设

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技术创新 ● 全自动控制 ● Peltier冷却溅射头 ● 精细镀层(0.5nm Cr粒子) ● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置 ● 薄膜沉积(典型为5nm) ● 直径为165mm腔室 ● 可选双溅射头 ● 可接膜厚测控仪
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